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 Time-of-flight secondary ion mass spectrometry and X-ray photoelectron spectroscopy investigation of B4C barrier thickness effects at the Mo-on-Si interface in Mo/Si multilayers 相关领域
X射线光电子能谱
二次离子质谱法
分析化学（期刊）
材料科学
碳化硼
硼
结晶
质谱法
光谱学
质量分数
离子
沉积（地质）
卢瑟福背散射光谱法
化学成分
紫外光电子能谱
紫外线
二次离子质谱
反射率
极紫外光刻
碳化物
化学
结晶学
极端紫外线
摩尔分数
静态二次离子质谱
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期刊：Applications of Surface Science 作者：L. Cao; Wenyun Du; Hongxuan Song; Zhenqi Lu; Wenjie Xu; et al 出版日期：2026-06-01 |
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(2025-6-4)
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