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标题
Low temperature silicon dioxide by thermal atomic layer deposition: Investigation of material properties
相关领域
原子层沉积 椭圆偏振法 分析化学（期刊） 材料科学 硅 电介质 表面粗糙度 薄膜 纳米技术 化学 光电子学 复合材料 色谱法
网址
https://doi.org/10.1063/1.3327430
AI链接 scitation.org fraunhofer.de lib4ri.ch fraunhofer.dedoi.org
DOI
10.1063/1.3327430 doi
其它 期刊：Journal of Applied Physics
作者：Daniel Hiller; Robert Zierold; Julien Bachmann; Marin Alexe; Yu Lin Yang; et al
出版日期：2010-03-15
求助人
研友_汪老头 在 2025-11-19 10:05:42 发布自江苏，悬赏 10 积分
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