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 Impact of deposition temperature on structural and electrical properties of sputtered AlN/ Si (111) for CMOS compatible MEMS 沉积温度对CMOS兼容MEMS溅射AlN/Si（111）结构和电学性能的影响
相关领域
微电子机械系统
材料科学
沉积（地质）
CMOS芯片
光电子学
电阻率和电导率
冶金
工程物理
纳米技术
电气工程
工程类
地质学
沉积物
古生物学
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期刊：Journal of Alloys and Compounds 作者：Srikumar Sandeep; R. Jyothilakshmi; И. В. Щетинин; K. B. Vinayakumar; K.K. Nagaraja 出版日期：2024-10-28 |
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