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标题
Impact of deposition temperature on structural and electrical properties of sputtered AlN/ Si (111) for CMOS compatible MEMS
沉积温度对CMOS兼容MEMS溅射AlN/Si（111）结构和电学性能的影响
相关领域
微电子机械系统 材料科学 沉积（地质） CMOS芯片 光电子学 电阻率和电导率 冶金 工程物理 纳米技术 电气工程 工程类 地质学 沉积物 古生物学
网址
https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2024.177270
DOI
10.1016/j.jallcom.2024.177270 doi
其它 期刊：Journal of Alloys and Compounds
作者：Srikumar Sandeep; R. Jyothilakshmi; И. В. Щетинин; K. B. Vinayakumar; K.K. Nagaraja
出版日期：2024-10-28
求助人
123 在 2025-12-05 22:16:57 发布自广西，悬赏 10 积分
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