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标题
Numerical analysis of a mixture of Ar/NH3 microwave plasma chemical vapor deposition reactor
混合Ar/NH3微波等离子体化学气相沉积反应器的数值分析
相关领域
电子回旋共振 离子 等离子体 原子物理学 化学 微波食品加热 电子 电子密度 氨 等离子体参数 离子回旋共振 离子源 分析化学（期刊） 回旋加速器 物理 色谱法 有机化学 量子力学
网址
https://doi.org/10.1063/1.4728210
DOI
10.1063/1.4728210 doi
其它 期刊：Journal of Applied Physics
作者：Zhi Li; Zhen Zhao; Xuehui Li
出版日期：2012-06-01
求助人
duoduo7 在 2025-12-19 20:33:55 发布自福建，悬赏 10 积分
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