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Thermal Atomic Layer Etching of Indium Gallium Zinc Oxide (IGZO), In2O3, Ga2O3, and ZnO Using Sequential Hydrogen Fluoride and Acetylacetone Exposures |
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期刊:The Journal of Physical Chemistry C 作者:Troy A. Colleran; Aziz I. Abdulagatov; Jonathan L. Partridge; Andrew S. Cavanagh; Steven M. George 出版日期:2025 |
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(2025-6-4)