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 Development of low damage mask making process on EUV mask with thin CrN buffer layer 具有薄CrN缓冲层的EUV掩模低损伤掩模制作工艺的开发
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期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Mitsuhiro Kureishi; Ryo Ohkubo; Morio Hosoya; Tsutomu Shoki; Noriyuki Sakaya; et al 出版日期：2005-05-06 |
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