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 Enhanced Lithography Performance with Imino/Imido Benzenesulfonate Photoacid Generator‐Bound Polymer Resists 用亚氨基/亚氨基苯磺酸盐光酸产生剂结合的聚合物抗蚀剂增强光刻性能
相关领域
抵抗
高分子化学
共聚物
甲基丙烯酸酯
热稳定性
聚合物
聚合
化学
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化学工程
有机化学
图层（电子）
工程类
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期刊：Small 作者：Yue Liu; Dong Wang; Haihua Wang; Huan Chen; Qianqian Wang; et al 出版日期：2025-03-05 |
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