Ferroelectric Enhancement in a TiN/Hf1–xZrxO2/W Device with Controlled Oxidation of the Bottom Electrode

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标题	Ferroelectric Enhancement in a TiN/Hf1–xZrxO2/W Device with Controlled Oxidation of the Bottom Electrode 底电极可控氧化TiN/Hf1-xZrxO2/W器件的铁电增强相关领域锡铁电性材料科学电极结晶学分析化学（期刊）电介质光电子学冶金化学物理化学色谱法
网址	https://doi.org/10.1021/acsaelm.3c01502
DOI	10.1021/acsaelm.3c01502 doi
其它	期刊：ACS applied electronic materials 作者：Santosh Chiniwar; Ya‐Chen Hsieh; Ching-Hsiang Shih; Chih-Yu Teng; Jing-Tang Yang; et al 出版日期：2024-02-13
求助人	落寞晓兰在 2024-04-17 22:41:22 发布自浙江，悬赏 10 积分
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