Characteristics of IGZO TFT Prepared by Atmospheric Pressure Plasma Jet Using PE-ALD $\hbox{Al}_{2}\hbox{O}_{3}$ Gate Dielectric - 科研通

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标题	Characteristics of IGZO TFT Prepared by Atmospheric Pressure Plasma Jet Using PE-ALD $\hbox{Al}_{2}\hbox{O}_{3}$ Gate Dielectric
网址	http://xplorestaging.ieee.org/ielx5/55/6172299/06165637.pdf?...
DOI	10.1109/led.2012.2185774 doi
其它	期刊：IEEE Electron Device Letters 作者：Chien-Hung Wu; Kow-Ming Chang; Sung-Hung Huang; I-Chung Deng; Chin-Jyi Wu; et al 出版日期：2012-03-08
求助人	sunrise 在 2026-05-29 18:04:29 发布自宁夏，悬赏 10 积分
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