Effect of electrical boundary conditions on ferroelectric domain structures in thin films

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标题	Effect of electrical boundary conditions on ferroelectric domain structures in thin films 电边界条件对薄膜铁电畴结构的影响相关领域铁电性材料科学四方晶系凝聚态物理电场相界薄膜领域（数学分析）相变边界（拓扑）相（物质）光电子学电介质纳米技术化学物理数学量子力学数学分析有机化学
网址	https://doi.org/10.1063/1.1492025
DOI	10.1063/1.1492025 doi
其它	期刊：Applied Physics Letters 作者：Yulan Li; Shenyang Hu; Zi‐Kui Liu; Long‐Qing Chen 出版日期：2002-07-15
求助人	美满的安柏在 2025-11-21 09:58:31 发布自江苏，悬赏 10 积分
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