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Polarity control and crystalline quality improvement of AlN thin films grown on Si(111) substrates by molecular beam epitaxy 分子束外延在Si(111)衬底上生长AlN薄膜的极性控制和晶体质量改善
相关领域
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期刊:Journal of Applied Physics 作者:Shizhao Fan; Yuhao Yin; Rong Liu; Haiyang Zhao; Zhenghui Liu; et al 出版日期:2024-10-08 |
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