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 Stabilizing the Interface of NASICON Solid Electrolyte against Li Metal with Atomic Layer Deposition 用原子层沉积稳定NASICON固体电解质与锂金属的界面
相关领域
材料科学
电解质
原子层沉积
离子电导率
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电化学
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化学工程
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期刊：ACS Applied Materials & Interfaces 作者：Yulong Liu; Qian Sun; Yang Zhao; Biqiong Wang; Payam Kaghazchi; et al 出版日期：2018-08-24 |
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