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 Etch mechanism and etch-induced effects in the inductively coupled plasma etching of GaN 电感耦合等离子体刻蚀中的刻蚀机制和刻蚀诱导效应
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena 作者：Rebecca Cheung; B. Rong; E. van der Drift; Willem G. Sloof 出版日期：2003-06-16 |
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