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Comparison of three titanium-precursors for atomic-layer-deposited TiO2 for passivating contacts on silicon
原子层沉积TiO2用于硅接触的三种钛前体的比较
相关领域
钛 硅 图层（电子） 材料科学 冶金 工程物理 纳米技术 工程类
网址
https://doi.org/10.1116/6.0003309
AI链接 aip.orgdoi.org
DOI
10.1116/6.0003309 doi
其它 期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films
作者：Daniel Hiller; Frans Munnik; J. López-Vidrier; Dmytro Solonenko; Johanna Reif; et al
出版日期：2024-03-29
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冷傲老头 在 2025-09-16 20:04:53 发布自江苏，悬赏 10 积分
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