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 Realization of preferential (100) oriented AlN thin films on Mo coated Si substrate using reactive RF magnetron sputtering 利用反应性射频磁溅镀在Mo涂层硅基片上实现优先（100）取向的AIN薄膜
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期刊：Applied Surface Science 作者：A. K. Das; Martando Rath; Deleep R. Nair; M. S. Ramachandra Rao; Amitava DasGupta 出版日期：2021-02-28 |
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