| 标题 |
 Realization of preferential (100) oriented AlN thin films on Mo coated Si substrate using reactive RF magnetron sputtering 利用反应性射频磁溅镀在Mo涂层硅基片上实现优先（100）取向的AIN薄膜
相关领域
材料科学
X射线光电子能谱
结晶度
基质（水族馆）
溅射沉积
氮化物
薄膜
溅射
纤锌矿晶体结构
钼
电介质
氮化铝
光电子学
分析化学（期刊）
铝
复合材料
纳米技术
冶金
化学工程
图层（电子）
化学
工程类
地质学
海洋学
锌
色谱法
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Applied Surface Science 作者：A. K. Das; Martando Rath; Deleep R. Nair; M. S. Ramachandra Rao; Amitava DasGupta 出版日期：2021-02-28 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
23
CAOHOU
Liufgui
鬼见愁
YifanWang
54Darren
GingerF
哈基米德
COSMAO
aldehyde
yx_cheng
研友_851bX8
比比谁的速度快
pollen
半城微凉
鲤鱼盼望
丘比特
yu
wyt
Kirito
皖公网安备34019202002308
