Realization of preferential (100) oriented AlN thin films on Mo coated Si substrate using reactive RF magnetron sputtering

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作者
A. K. Das,Martando Rath,Deleep R. Nair,M. S. Ramachandra Rao,Amitava DasGupta
出处
期刊:Applied Surface Science [Elsevier BV]
卷期号:550: 149308-149308 被引量:19
标识
DOI:10.1016/j.apsusc.2021.149308
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