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标题
Properties of SiOxNy Thin Films Deposited with a Single Molecular Precursor by Using RF PECVD
相关领域
等离子体增强化学气相沉积 材料科学 薄膜 光电子学 纳米技术
网址
https://doi.org/10.3938/jkps.51.1069
DOI
10.3938/jkps.51.1069 doi
其它 期刊：Journal of the Korean Physical Society
作者：Chanwon Jung; Sung Hoon Jeong; I.-S. Bae; Jin‐Hyo Boo; Won Seok Choi
出版日期：2007-09-15
求助人
微笑的安容 在 2025-10-28 11:10:05 发布自辽宁，悬赏 10 积分
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