| 标题 |
Experiments of a Novel Dual Path LDMOS With Asymmetric-SJ Incorporating Polysilicon Protection Implantation Techniques |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:IEEE Transactions on Electron Devices 作者:Teng Liu; Y. Li; Yuxiao Kun; Guoliang Yao; Jiawei Wang; et al 出版日期:2025-12-11 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)