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Ab initio device-driven screening of sub-1-nm-thickness oxide semiconductors for future CMOS technology nodes |
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| DOI |
10.1103/73mc-yfp4
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| 其它 |
期刊:Physical Review Applied 作者:Linqiang Xu; Yue Hu; Tong Su; Lianqiang Xu; Lin Xu; et al 出版日期:2026-06-02 |
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(2025-6-4)