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标题
Ab initio investigation of interfacial layer formation in the Mo∕Si boundary for extreme ultraviolet lithography
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DOI
10.1063/1.2943216 doi
其它 期刊:Journal of Applied Physics
作者:In-Yong Kang; Yong-Chae Chung
出版日期:2008
求助人
Rita 在 2026-02-28 17:13:01 发布自浙江,悬赏 10 积分
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