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 Novel photoresist stripping technology using ozone/vaporized water mixture 利用臭氧/汽化水混合物的新型光刻胶剥离技术
相关领域
光刻胶
臭氧
放气
薄脆饼
剥离（纤维）
材料科学
硫酸
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过程（计算）
化学
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纳米技术
复合材料
计算机科学
有机化学
操作系统
图层（电子）
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期刊：IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing 作者：Hitoshi Abe; Hayato Iwamoto; Takayuki Toshima; Tadashi Iino; Glenn W. Gale 出版日期：2003-08-01 |
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