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 Exploring the Synergy between Nanoparticles and Passivation Film Chemistry Relevant to Cu Chemical Mechanical Planarization (CMP) Slurry Formulation 探索纳米粒子与铜化学机械平坦化（CMP）浆料配方相关的钝化膜化学之间的协同作用
相关领域
化学机械平面化
钝化
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材料科学
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化学工程
各向同性腐蚀
粒子（生态学）
纳米技术
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期刊：ECS Meeting Abstracts 作者：Carolyn F. Graverson; Allie M Mikos; Maria G Salinas; Madison Hill; Amy Mlynarski; et al 出版日期：2019-05-01 |
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