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Exploring the Synergy between Nanoparticles and Passivation Film Chemistry Relevant to Cu Chemical Mechanical Planarization (CMP) Slurry Formulation 探索纳米粒子与铜化学机械平坦化(CMP)浆料配方相关的钝化膜化学之间的协同作用
相关领域
化学机械平面化
钝化
泥浆
材料科学
纳米颗粒
磨料
化学工程
各向同性腐蚀
粒子(生态学)
纳米技术
蚀刻(微加工)
复合材料
抛光
图层(电子)
工程类
海洋学
地质学
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期刊:ECS Meeting Abstracts 作者:Carolyn F. Graverson; Allie M Mikos; Maria G Salinas; Madison Hill; Amy Mlynarski; et al 出版日期:2019-05-01 |
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