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Water-soluble bio-sourced resist interactions with fluorinated etching plasmas during the photolithography process 相关领域
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期刊:Journal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and Phenomena 作者:Paule Durin; Olha Sysova; Alexandre Téolis; Stéphane Trombotto; Samar Hajjar‐Garreau; et al 出版日期:2023-10-31 |
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