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 Growth mechanisms study of microcrystalline silicon deposited by SiH4/H2 plasma using tailored voltage waveforms 用定制电压波形研究SiH4/H2等离子体沉积微晶硅的生长机理
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期刊：Journal of Applied Physics 作者：Bastien Bruneau; J. Wang; Jean-Christophe Dornstetter; Erik Johnson 出版日期：2014-02-24 |
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