Growth mechanisms study of microcrystalline silicon deposited by SiH4/H2 plasma using tailored voltage waveforms

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标题	Growth mechanisms study of microcrystalline silicon deposited by SiH4/H2 plasma using tailored voltage waveforms 用定制电压波形研究SiH4/H2等离子体沉积微晶硅的生长机理相关领域微晶离子硅波形材料科学等离子体无定形固体分析化学（期刊）原子物理学非晶硅电压光电子学分子物理学晶体硅化学物理结晶学有机化学色谱法量子力学
网址	https://doi.org/10.1063/1.4866693
DOI	10.1063/1.4866693 doi
其它	期刊：Journal of Applied Physics 作者：Bastien Bruneau; J. Wang; Jean-Christophe Dornstetter; Erik Johnson 出版日期：2014-02-24
求助人	云间一朵熊在 2024-02-29 15:21:27 发布自江西，悬赏 10 积分
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