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  Projection optics for extreme ultraviolet lithography (EUVL) micro-field exposure tools (METs) with a numerical aperture of 0.5 数值孔径为0.5的极紫外光刻(EUVL)微场曝光工具(MET)用投影光学器件
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期刊：Proceedings of SPIE 作者：Holger Glatzel; Dominic Ashworth; Mark Bremer; Rodney Chin; K. D. Cummings; et al 出版日期：2013-04-01 |
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