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  Pareto-Guided Process Optimization of Single-Crystal InP Chemical Mechanical Polishing: Balancing Material Removal Rate and Surface Roughness 相关领域
抛光
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材料科学
表面光洁度
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磷化铟
复合材料
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铟
冶金
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期刊：Micromachines 作者：Jiayun Deng; Junjiang Zhou; Jiacheng Geng; Hua Wei; Hanbao Liu; et al 出版日期：2026-09-22 |
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