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标题
Increasing the spatial uniformity of SiO2 films produced by plasma enhanced chemical vapor deposition using capacitively coupled plasmas with structured electrodes
网址
https://eprints.whiterose.ac.uk/id/eprint/238165/1/Bhuva2026...
DOI
10.1116/6.0005207 doi
其它 期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A
作者：Montu P. Bhuva; G. Daly; Geoff Hassall; James Ellis; E. Wagenaars; et al
出版日期：2026-02-11
求助人
dreamer 在 2026-10-15 09:15:24 发布自辽宁，悬赏 10 积分
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