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SF6/O2 plasma for ICP/RIE SiC Etching 相关领域
蚀刻(微加工)
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期刊: 作者:R. R. César; M. Mederos; Frederico H. Cioldin; Renato Beraldo; Ricardo Cotrin Teixeira; et al 出版日期:2024-09-02 |
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