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MoS2 negative-capacitance transistors with steep slope and negligible hysteresis by using monolayer Al1-Zr O as gate dielectric plus NH3-plasma treatment
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网址
https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2021.151882
DOI
10.1016/j.apsusc.2021.151882 doi
其它 期刊：Applied Surface Science
作者：Xingjuan Song; Lu Liu; Jing-Ping Xu
出版日期：2021-11-13
求助人
zhangxp 在 2026-01-15 16:18:04 发布自河南，悬赏 10 积分
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