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  Compensation of EUV lithography mask blank defect based on an advanced genetic algorithm 基于改进遗传算法的EUV光刻掩膜空白缺陷补偿
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期刊：Optics Express 作者：Ruixuan Wu; Lisong Dong; Xu Ma; Yayi Wei 出版日期：2021-08-11 |
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