Use of 2H-heptafluoropropane, 1-iodoheptafluoropropane, and 2-iodoheptafluoropropane for a high aspect ratio via etch in a high density plasma etch tool

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标题	Use of 2H-heptafluoropropane, 1-iodoheptafluoropropane, and 2-iodoheptafluoropropane for a high aspect ratio via etch in a high density plasma etch tool
网址	http://dx.doi.org/10.1116/1.581415
DOI	10.1116/1.581415 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 作者：Simon Karecki; Laura Pruette; Rafael Reif; Laurie Beu; Terry Sparks; et al 出版日期：1998-07-01
求助人	cyyan 在 2026-08-11 14:40:28 发布自上海，悬赏 10 积分
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