Phenolic molecular glasses as resists for next-generation lithography

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标题	Phenolic molecular glasses as resists for next-generation lithography
网址	http://dx.doi.org/10.1117/12.722919
DOI	10.1117/12.722919 doi
其它	期刊：SPIE Proceedings 作者：Xavier André; Jin Kyun Lee; Anuja De Silva; Nelson Felix; Christopher K. Ober; et al 出版日期：2007-03-16
求助人	李露露在 2026-09-23 16:24:07 发布自上海，悬赏 20 积分
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