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  Impact of CeOx layer insertion on ferroelectric properties of Hf-Zr-O films prepared by chemical solution deposition CeOx层插入对化学溶液沉积Hf-Zr-O薄膜铁电性能的影响
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Mizuki Saito; Mohit Mohit; Koichi Higashimine; Eisuke Tokumitsu 出版日期：2023-09-27 |
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