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Influence of postdeposition annealing on structural properties and electrical characteristics of thin Tm2O3 and Tm2Ti2O7 dielectrics
沉积后退火对Tm2O3和Tm2Ti2O7薄膜结构和电学特性的影响
相关领域
退火（玻璃） 电介质 材料科学 薄膜 电子工程 冶金 复合材料 光电子学 纳米技术 工程类
网址
https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2009.11.029
DOI
10.1016/j.apsusc.2009.11.029 doi
其它 期刊：Applied Surface Science
作者：Tung-Ming Pan; Li-Chen Yen
出版日期：2009-11-14
求助人
7123 在 2025-05-18 10:43:00 发布自吉林，悬赏 10 积分
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