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![]() ALD生长HfTiOx基MOS电容器的辐射耐受性和缺陷动力学
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期刊:Radiation effects and defects in solids 作者:R. Sai Prasad Goud; Mangababu Akkanaboina; Arshiya Anjum; Kanaka Ravi Kumar; A. P. Gnana Prakash; et al 出版日期:2023-01-02 |
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