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标题
Development status of High OD photo resist for CF black matrix
CF黑基质用高OD光刻胶的发展现状
相关领域
抵抗 背光 材料科学 泄漏(经济) 液晶显示器 亮度 光学 RGB颜色模型 光电子学 彩色凝胶 纳米技术 薄膜晶体管 计算机科学 物理 宏观经济学 经济 操作系统 图层(电子)
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DOI
10.1117/12.804829 doi
求助人
糊涂的晓槐 在 2025-09-12 16:22:04 发布自江苏,悬赏 20 积分
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