| 标题 |
 Improving polishing activity in CMP slurry through CeO2-LaOF interface effect and dispersant optimization 相关领域
分散剂
六偏磷酸钠
泥浆
分散稳定性
吸附
抛光
化学机械平面化
Zeta电位
表面粗糙度
材料科学
分散性
磨料
化学工程
悬挂（拓扑）
表面光洁度
聚丙烯酸钠
化学稳定性
复合材料
比表面积
色散（光学）
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| 网址 | |
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| 其它 |
期刊：Applied Surface Science 作者：Yingpeng Li; Xiaomin Luo; Wen Zhan; Jinghua Yu; Hui Xia; et al 出版日期：2025-10-01 |
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