Metal ion contamination and removal on oxide surfaces and polyvinyl acetal brushes during the tungsten post-CMP cleaning process

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标题	Metal ion contamination and removal on oxide surfaces and polyvinyl acetal brushes during the tungsten post-CMP cleaning process 钨CMP后清洗过程中氧化物表面和聚乙烯醇缩醛刷上的金属离子污染和去除相关领域材料科学钨金属污染氧化钨聚乙烯醇氧化物化学工程冶金复合材料生态学工程类生物
网址	https://doi.org/10.1016/j.surfin.2025.106939
DOI	10.1016/j.surfin.2025.106939 doi
其它	期刊：Surfaces and Interfaces 作者：Palwasha Jalalzai; Sumit Kumar; Ranjith Punathil Meethal; Kwang-Min Han; Andreas Klipp; et al 出版日期：2025-06-01
求助人	安琪在 2025-09-03 10:48:13 发布自中国台湾，悬赏 10 积分
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