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 Relationships among growth mechanism, structure and morphology of PEALD TiO2films: the influence of O2plasma power, precursor chemistry and plasma exposure mode 相关领域
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期刊：Nanotechnology 作者：W Chiappim; G E Testoni; A C O C Doria; R S Pessoa; M A Fraga; et al 出版日期：2016-06-16 |
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