Nanoscale-Barrier Formation Induced by Low-Dose Electron-Beam Exposure in Ultrathin MoS2 Transistors

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标题	Nanoscale-Barrier Formation Induced by Low-Dose Electron-Beam Exposure in Ultrathin MoS2 Transistors
网址	https://pubs.acs.org/doi/pdf/10.1021/acsnano.6b05952
DOI	10.1021/acsnano.6b05952 doi
其它	期刊：ACS Nano 作者：Masahiro Matsunaga; Ayaka Higuchi; Guanchen He; Tetsushi Yamada; Peter Krüger; et al 出版日期：2016-10-06
求助人	明日鎏金在 2026-06-17 16:17:53 发布自湖南，悬赏 10 积分
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