The effect of pretreatment for SiH 4 gas by microwave plasma on Si film formation behavior by thermal CVD

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标题	The effect of pretreatment for SiH 4 gas by microwave plasma on Si film formation behavior by thermal CVD
网址	https://onlinelibrary.wiley.com/doi/pdf/10.1002/ppap.2019001...
DOI	10.1002/ppap.201900198 doi
其它	期刊：Plasma Processes and Polymers 作者：Keiichi Hamanaka; Norihisa Takei; H. Kakiuchi; K. Yasutake; H. Ohmi 出版日期：2020-01-27
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