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  Electronic Properties of ZrO2 Films Fabricated via Atomic Layer Deposition on 4H-SiC and Si Substrates 4H-SiC和Si衬底上原子层沉积ZrO2薄膜的电子特性
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期刊：Materials research express 作者：Xi-Rui Wang; Yuxuan Zeng; Jie Zhang; Wei Huang; Hong-Ping Ma; et al 出版日期：2024-01-01 |
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