Atomistic Simulation of the Formation of Nanoporous Silica Films via Molecular Chemical Vapor Deposition on Nonporous Substrates

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标题	Atomistic Simulation of the Formation of Nanoporous Silica Films via Molecular Chemical Vapor Deposition on Nonporous Substrates 无孔基片上分子化学蒸汽沉积纳米多孔二氧化硅薄膜的原子模拟相关领域纳米孔多孔介质化学气相沉积化学工程材料科学沉积（地质）多孔性纳米技术化学复合材料古生物学沉积物工程类生物
网址	https://doi.org/10.1021/la2031329
DOI	10.1021/la2031329 doi
其它	期刊：Langmuir 作者：Taslima Akter; Thomas McDermott; J. M. Don MacElroy; Damian A. Mooney; Denis P. Dowling 出版日期：2011-10-10
求助人	LI电池在 2025-07-21 17:04:11 发布自内蒙古，悬赏 10 积分
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