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 Atomistic Simulation of the Formation of Nanoporous Silica Films via Molecular Chemical Vapor Deposition on Nonporous Substrates 无孔基片上分子化学蒸汽沉积纳米多孔二氧化硅薄膜的原子模拟
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期刊：Langmuir 作者：Taslima Akter; Thomas McDermott; J. M. Don MacElroy; Damian A. Mooney; Denis P. Dowling 出版日期：2011-10-10 |
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