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Influence of oxygen in the deposition and annealing atmosphere on the characteristics of ITO thin films prepared by sputtering at room temperature
沉积和退火气氛中氧对室温溅射制备ITO薄膜特性的影响
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期刊:Vacuum 作者:C. Guillén; J. Herrero 出版日期:2006-03-01 |
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