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 Joint optimization of layout and litho for SRAM and logic towards the 20nm node using 193i 使用193i对面向20nm节点的SRAM和逻辑进行布局和光刻的联合优化
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期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Peter De Bisschop; Bart Laenens; Kazuya Iwase; Teruyoshi Yao; Mircea Dusa; et al 出版日期：2011-03-07 |
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