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 Cycle of two-step etching process using ICP for diamond MEMS applications 用于金刚石MEMS应用的ICP两步刻蚀工艺循环
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期刊：Diamond and Related Materials 作者：Takatoshi Yamada; Hiromichi Yoshikawa; Hiroshi Uetsuka; Somu Kumaragurubaran; Norio Tokuda; et al 出版日期：2006-12-16 |
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