| 标题 |
 Cycle of two-step etching process using ICP for diamond MEMS applications 用于金刚石MEMS应用的ICP两步刻蚀工艺循环
相关领域
钻石
蚀刻（微加工）
反应离子刻蚀
材料科学
扫描电子显微镜
硅
干法蚀刻
微电子机械系统
感应耦合等离子体
氧化硅
氧化物
等离子体刻蚀
纳米技术
分析化学（期刊）
光电子学
等离子体
化学
冶金
复合材料
图层（电子）
量子力学
色谱法
物理
氮化硅
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Diamond and Related Materials 作者：Takatoshi Yamada; Hiromichi Yoshikawa; Hiroshi Uetsuka; Somu Kumaragurubaran; Norio Tokuda; et al 出版日期：2006-12-16 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
SYLH
nozero
等待冬亦
cdercder
许甜甜鸭
个性归尘
hjyylab
昏睡的蟠桃
一一
乐观小之
冰魂
彭于彦祖
coolkid
剑指东方是为谁
热心市民小红花
jenningseastera
dodo
MX
科研助手6
sunyz
皖公网安备34019202002308
