Cycle of two-step etching process using ICP for diamond MEMS applications

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作者
Takatoshi Yamada,Hiromichi Yoshikawa,Hiroshi Uetsuka,Somu Kumaragurubaran,Norio Tokuda,Shinichi Shikata
出处
期刊:Diamond and Related Materials [Elsevier]
卷期号:16 (4-7): 996-999 被引量:50
标识
DOI:10.1016/j.diamond.2006.11.023

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