Atomic layer deposition of tantalum oxide thin films using the precursor tert-butylimido-tris-ethylmethylamido-tantalum and water: Process characteristics and film properties - 科研通

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标题	Atomic layer deposition of tantalum oxide thin films using the precursor tert-butylimido-tris-ethylmethylamido-tantalum and water: Process characteristics and film properties
网址	https://doi.org/10.1016/j.tsf.2017.02.047
DOI	10.1016/j.tsf.2017.02.047 doi
其它	期刊：Thin Solid Films 作者：Thomas Henke; Martin Knaut; Marion Geidel; Felix Winkler; Matthias Albert; et al 出版日期：2017-02-24
求助人	随遇而安在 2026-10-14 14:40:13 发布自江苏，悬赏 10 积分
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