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Novel channel-last integration of ALD MoS2 into stacked channel FETs on 300mm wafers
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DOI
10.1109/IEDM50572.2025.11353602 doi
其它 期刊:2025 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM)
作者:S. Barraud; M. Rodriguez-Fano; J.M. Pedini; S. Cadot; R. Chouk; et al
出版日期:2025
求助人
stop here 在 2026-04-09 15:11:17 发布自湖南,悬赏 10 积分
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