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 Atomic Layer Deposition of Low-Resistivity and High-Density Tungsten Nitride Thin Films Using B[sub 2]H[sub 6], WF[sub 6], and NH[sub 3] 相关领域
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期刊：Electrochemical and Solid-State Letters 作者：Soo-Hyun Kim; Jun-Ki Kim; Nohjung Kwak; Hyunchul Sohn; Jinwoong Kim; et al 出版日期：2006-01-28 |
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